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Industrie des matériaux de haute qualité

Cible de pulvérisation de métal

Les besoins en cendres métalliques sont plus élevés que ceux de l'industrie des matériaux traditionnels. Exigences générales telles que la taille, la planéité, la pureté, la teneur en impuretés, la densité, N / O / C / S, la taille des grains et le contrôle des défauts; Les exigences plus élevées ou les exigences spéciales comprennent:

La rugosité de la surface, la résistance, l'uniformité de la granulométrie, la composition et l'homogénéité de l'organisation, la teneur et la taille des corps étrangers (oxyde), la perméabilité, les grains à haute densité et les grains ultra finis et ainsi de suite.

La cible de pulvérisation de métal est un nouveau type de méthode de revêtement de vapeur physique consiste à utiliser le système de canon à électrons aux électrons et à se concentrer sur le matériau en plaqué, de sorte que la pulvérisation des atomes suit le principe de conversion de momentum avec une forte énergie cinétique à partir de la mouche. Le film a été déposé sur le substrat. Ce type de matériau plaqué est appelé cible de pulvérisation cathodique. Les cibles de pulvérisation cathodique sont les métaux, les alliages, les céramiques, les borures et analogues.

Application principale cible de pulvérisation de métal

La cible de pulvérisation de métal est principalement utilisée dans l'industrie électronique et de l'information, comme les circuits intégrés, le stockage d'informations, l'affichage à cristaux liquides, la mémoire laser, les dispositifs de contrôle électronique, etc. Peut également être utilisé dans le domaine du revêtement de verre; Peut également être utilisé dans des matériaux résistant à l'usure, des fournitures décoratives haut de gamme et d'autres industries.